【总结】大型电子束箱式真空镀膜设备

2024年08月27日 云顶

性能指标主要技术指标:内腔直径(mm):、、等;使用整体平面工件盘时:工件直径不超过φmm,边缘厚度不超过mm,工件及夹具总重量不超过吨,工件转速-rpm/min;


使用三行星平面工件盘时:工件直径不超过φmm,边缘厚度不超过mm,工件及夹具总重量不超过吨,工件转速-rpm/min;极限真空:≤×-Pa(小时内);


常温状态下,真空室排气由大气至压强×-Pa,排气时间≤min;℃烘烤状态下,真空室排气由大气至压强×-Pa,排气时间≤min


下烘烤,最高温度℃,控温精度≤±℃;烘烤至℃时,温度不均匀性≤±℃(径向点测试)膜厚片内均匀性:≤±%(电子束蒸发源制备AO、SiO两种单层薄膜,延半径方向均分十点测试);膜厚片间均匀性:≤±%(批次内片,每片取平均值)膜厚批间重复性:≤±%(连续批,每批次取平均值);


控制程序:U标准机柜,专用控制台操作;基于微软WPF开发的全自动一键式操作程序,保证镀膜重复性;◆采用exce文件编辑工艺参数,软件直接调用运行即可完成整个镀膜工艺流程,无需额外操作;软件自动生成详细的工艺过程运行记录和镀膜信息记录;记录文件可回溯,


历史数据曲线可查看,时间期限为年内;可将TFC和Maca软件设计参与导入到工艺流程内;◆膜层状态界面可查看厚度、时间、速率、功率等镀膜信息;◆关键部件根据实际使用情况,


有维护时间显示,即节约成本,又便于维护;◆完备的互锁功能,防止误操作;程序设有三级权限,便于管理及维护。

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